ASML y Zeiss ya trabajan en Hyper-NA, la litografía que aspira a extender una década más el reinado del fabricante neerlandés. El estudio revisado por pares del que se ha hecho eco Reuters el 8 de octubre sitúa el nuevo salto lejos del mercado, pero lo pone por escrito: la industria ya tiene nombre para lo que viene después de High-NA.
Claves de la operación
- Cada equipo mantendrá el ticket de cientos de millones. Las máquinas High-NA alcanzan los 400 millones de dólares, y Hyper-NA apunta a un tamaño apenas mayor y a una factura similar.
- Intel corre por delante en la adopción. Ya usa High-NA en capas de sus procesadores Panther Lake, mientras Samsung y SK Hynix apuntan a 2028 y TSMC se reserva hasta 2030.
- Europa diseña la máquina, pero no la compra. ASML es la joya industrial del continente, mientras sus clientes están en Asia y Estados Unidos.
No es el anuncio de un producto. ASML ha arrancado los trabajos de desarrollo, pero todavía no se ha comprometido a fabricar estos equipos. Los plazos que maneja el sector apuntan a unos diez años vista, una cifra que en semiconductores equivale a dos generaciones completas de nodos de fabricación.
Diez años dan para mucho.
Para entender dónde encaja Hyper-NA conviene mirar primero a High-NA, la generación que ahora está llegando a las fábricas. Intel ya la utiliza en capas de sus procesadores Panther Lake. SK Hynix instaló un equipo en Corea del Sur en 2025, aunque apunta a 2028 para incorporarlo a la producción de memorias DRAM. Samsung maneja ese mismo horizonte y TSMC contempla su adopción hacia 2030.
La diferencia entre ambas generaciones está en la apertura numérica, el parámetro que mide la capacidad del sistema óptico para recoger y enfocar la luz. La apertura pasa de 0,55 a al menos 0,75. Según la documentación técnica de Zeiss, eso bastaría para pasar de unos 8 a unos 5 nanómetros de half-pitch, una métrica que mide la mitad de la distancia de repetición de un patrón y que no debe confundirse con los nombres comerciales de los nodos.
ASML no libra una carrera contra sus rivales, sino contra la física: cada nanómetro conquistado exige una década de investigación.
Aquí nada se improvisa.
La arquitectura no cambia de raíz. En estas máquinas la luz ultravioleta extrema no atraviesa lentes convencionales, sino que se dirige mediante espejos de precisión extrema. Hyper-NA conservaría los 13,5 nanómetros de longitud de onda de los sistemas actuales, y el estudio señala que Zeiss ya tiene capacidad para fabricar los espejos necesarios mientras ASML podría reutilizar sin modificaciones su fuente de luz.
El problema es que la ganancia tiene su factura. Cuanto mayor es la apertura numérica, menor resulta la profundidad de foco y menos margen tiene la máquina para enfocar. A eso se suman los efectos que introducen las máscaras donde se definen los circuitos, y las exigencias de los materiales sensibles a la luz.
El calendario no engaña.
La batalla por High-NA aún no se ha jugado
El calendario de adopción dibuja un mapa competitivo muy desigual. Intel quiere rentabilizar su adelanto antes de que sus rivales reaccionen, mientras Samsung y SK Hynix apuntan a 2028 y TSMC, el mayor fabricante de chips del mundo, se reserva hasta 2030. Cada año de retraso se traduce en millones de transistores por oblea.
El precio de cada equipo, que puede alcanzar los 400 millones de dólares, explica por qué los fabricantes no se lanzan en bloque. Para ASML, sin embargo, el negocio es otro: mantener el monopolio de facto sobre la tecnología EUV, que ningún competidor ha logrado replicar en más de dos décadas.
Europa domina la máquina, pero no el mercado
ASML no tiene rival. Durante más de dos décadas ha sido la única compañía del mundo capaz de fabricar máquinas EUV comerciales, una posición que ni Japón ni Estados Unidos han logrado romper. Esa singularidad ha convertido a la empresa neerlandesa en la joya industrial del continente: su capitalización supera a la de cualquier compañía del IBEX 35, y ninguna empresa española compite en su liga.
La paradoja europea es evidente. El continente diseña y ensambla la máquina más sofisticada del planeta, pero no fabrica los chips que salen de ella. España aprobó un PERTE Chip de más de 12.000 millones para atraer inversión en semiconductores, una cantidad que en el mercado de la litografía equivale a poco más de una treintena de equipos High-NA.
El riesgo para ASML no está en la demanda, que sigue firme, sino en la concentración. Sus clientes son un puñado de fabricantes, de TSMC a Intel pasando por Samsung y SK Hynix, y cualquier recorte de inversión en uno de ellos sacude sus cuentas. La exposición a China sigue bajo la vigilancia de Washington y La Haya, que han ido endureciendo las restricciones a la exportación de equipos de litografía avanzada.
Hyper-NA, en cualquier caso, no llega mañana. Los autores del estudio apuntan que, para ir más allá, probablemente haga falta luz con una longitud de onda menor, una posibilidad que aún se estudia en el ámbito académico. Mientras la industria digiere High-NA, ASML ya está decidiendo qué vendrá después. El próximo hito relevante será comprobar si TSMC confirma su calendario para 2030 y si algún competidor logra acercarse al trono óptico de Zeiss.
